製藥純水設備嚴格要求不放水

　　純化水為采用蒸餾法、離子交換法、反滲透法或其他適宜的方法製得供藥用的水."而不再僅局限於"蒸餾"這一種工藝.藥典這一改變是我國製藥用水生產發展*的一大進步,與*國家的藥典實現了接軌.藥典將注射用水規定為"純化水經蒸餾所得的水".而USP已連續在7個版本中明確規定反滲透(reverse osmosis,RO)法可以作為製取注射用水的法定方法,顯示了人們對采用膜技術生產製藥用水的信心.膜分離法生產製藥用水是製藥用水技術發展的必然趨勢.

　　醫藥用純水對水質要求相對來說更加嚴格,更加高.常要求超純水的電阻值應高於15兆以上.為保證醫藥用超純水的用水安全,超純水的處理設備整個係統也都由全不鏽鋼材質組合而成,而且在用水點之前都必須裝備殺菌裝置.我公司從整個醫藥行業用超純水的特點出發,針對不同用戶對高純水的不同要求,采用反滲透,EDI等工藝,比較有針對性地設計出成套高純水處理工藝,以滿足藥廠、醫院的純化水製取、大輸液製取的用水要求.

　　設計規範:

　　1、結構設計應簡單、可靠、拆裝簡便.

　　2、為便於拆裝、更換、清洗零件,執行機構的設計盡量采用的標準化、通用化、係統化零部件.

　　3、設備內外壁表麵,要求光滑平整、*,容易清洗、滅菌.零件表麵應做鍍鉻等表麵處理,以耐腐蝕,防止生鏽.設備外麵避免用油漆,以防剝落.

　　4、製備純化水設備應采用低碳不鏽鋼或其他經驗證不汙染水質的材料.製備純化水的設備應定期清洗,並對清洗效果驗證.

　　5、注射用水接觸的材料必須是低碳不鏽鋼(例如316L不鏽鋼)或其他經驗證不對水質產生汙染的材料.製備注射用水的設備應定期清洗,並對清洗效果驗證.

　　6、純化水儲存周期不宜大於24小時,其儲罐宜采用不鏽鋼材料或經驗證無毒,耐腐蝕,不滲出汙染離子的其他材料製作.保護其通氣口應安裝不脫落纖維的疏水性除菌濾器.儲罐內壁應光滑,接管和焊縫不應有死角和沙眼.應采用不會形成滯水汙染的顯示液麵、溫度壓力等參數的傳感器.對儲罐要定期清洗、消毒滅菌,並對清洗、滅菌效果驗證.

　　7、壓力容器的設計,須由有許可證的單位及合格人員承擔,須按中華人民共和國國家標準<鋼製壓力容器》(GB150-80)及"壓力容器安全技術監察規程"的有關規定辦理.

　　的應用範圍:

　　1、半導體、單晶矽、集成電路、超大規模集成電路,顯象管、觸摸屏、液晶顯示,高精度線路板,光學、光電類器件,各種電子器件,微電子工業、IC 芯片封裝行業,太陽能矽片清洗、LCD 清洗等2、醫藥行業用水,生物、生化實驗室用水,製藥行業,無菌、無熱源注射用水、製劑工藝用水,醫院血液透析;用水、生化分析用水、輸液醫藥用水等;

　　3、熱電廠用水處理、冶金工業用水處理、航天工業、汽車工業等;

　　4、製取熱力、火力、渦輪發電鍋爐用水,廠礦企業中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水等.

　　製藥純水設備專業生產高純水設備,高純水處理設備,高純水設備,EDI高純水設備,超純水設備,超純水設備,超純水裝置,去離子超純水設備,反滲透超純水設備,工業超純水設備,小型超純水設備,大型超純水設備並且出水水質符合純化水標準、符合GMP標準、美國ASTM純水水質標準、我國電子工業水質技術標準、電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、國內外大規模集成電路水質標準等,電阻率均可達到1-18兆,適合用於各個行業,現貨供應,!